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CVDプレートヒータ
リリース時間: 2024-09-20 |
ブラウズ数: 20
CVDプロセスは常圧または低真空で行われ、めっき膜の回折性が良く、複雑な形状の表面またはワークの深孔、細孔に対して均一にめっきすることができます。
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