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CVDプレートヒータ

リリース時間:2024-09-20 | ブラウズ数: 19

CVDプロセスは常圧または低真空で行われ、めっき膜の回折性が良く、複雑な形状の表面またはワークの深孔、細孔に対して均一にめっきすることができます。


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